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聚焦松井,及時(shí)了解涂布模頭行業(yè)動(dòng)態(tài)涂布模頭準(zhǔn)確控制,有以下步驟:
設(shè)置模頭高度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),用以調(diào)整涂布模頭的高度位置;在涂布模頭或涂布平臺(tái)上設(shè)置距離測(cè)量?jī)x,用以測(cè)量涂布模頭與涂布平臺(tái)的距離;根據(jù)應(yīng)用環(huán)境設(shè)定一預(yù)設(shè)高度值、一預(yù)設(shè)偏差值;距離測(cè)量?jī)x測(cè)定涂布模頭與涂布平臺(tái)的距離;將預(yù)設(shè)高度值與距離進(jìn)行比較,并根據(jù)預(yù)設(shè)高度值通過(guò)模頭高度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)整涂布模頭的高度;距離測(cè)量?jī)x實(shí)時(shí)測(cè)定涂布模頭與涂布平臺(tái)的距離;根據(jù)預(yù)設(shè)高度值及預(yù)設(shè)偏差值獲得高度值范圍,當(dāng)實(shí)時(shí)測(cè)定的距離偏移高度值范圍時(shí),實(shí)施涂布模頭高度向預(yù)設(shè)高度范圍的閉環(huán)調(diào)整。
基于擠壓式涂布方法對(duì)涂布薄膜厚度和厚度均勻性的高度可控制性特點(diǎn),擠壓式涂布方式被廣泛應(yīng)用于新型薄膜太陽(yáng)能電池、新型顯示材料、光學(xué)功能膜、環(huán)保滲透膜等新型行業(yè)領(lǐng)域。隨著新型行業(yè)功能薄膜物化特質(zhì)的要求和薄膜高性能化要求,涂布薄膜厚度及厚度均勻性需要更高程度的控制。
一般而言,涂布薄膜的質(zhì)量(厚度和均勻性)受涂布設(shè)備和涂布條件的影響,除機(jī)加工設(shè)備部件精度影響以外,模頭高度控制和涂布速度控制對(duì)膜質(zhì)影響為顯著。
在擠壓式平板涂布過(guò)程中:樣片輸送、模頭下降、涂布(涂布完成)、模頭上升,涂布模頭在涂布過(guò)程中要受到傳動(dòng),涂布模頭機(jī)械調(diào)整也造成高度位置偏差,長(zhǎng)時(shí)間工作,會(huì)造成更大的累計(jì)偏差,從而造成涂布薄膜厚度的不均勻。采用上述優(yōu)選的方案,在涂布過(guò)程中,直接利用距離測(cè)量?jī)x測(cè)定涂布模頭到涂布平面的距離,并通過(guò)閉環(huán)控制完成涂布模頭的實(shí)時(shí)調(diào)整,這樣可以大大減少因?yàn)橥坎寄n^高度位置變化而造成涂布薄膜的影響,以獲得厚度均勻一致的高質(zhì)量薄膜。